光散射学报

  • 致黄昆教授的祝贺信

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  • 致黄昆教授的祝贺信

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  • 致黄昆教授的祝贺信

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  • 拉曼光谱法确定某些硅聚合物的构象稳定性(英文)

    为了比较某些取代乙烯硅烷不同构象的相对稳定性 ,我们进行了一系列波数在 5 0 -35 0 0cm- 1间的拉曼光谱研究。本文所涉及的分子包括一 ,二卤 (F ,Cl,Br)代乙烯硅烷 ,甲基乙烯基二卤 (F ,Cl)代硅烷以及二甲基乙烯基—卤 (F ,Cl)代硅烷。对以上这些分子 ,我们进行了全电子相关Moller -Plesset微扰理论第二阶(MP2 )的从头 (abinitio)计算。我们仅引入两个比率因子 (scalingfactor)用以计算出液相中上述分子两种稳定构象的拉曼光谱。依据计算模拟所得的谱图 ,以及与实验所得的固相拉曼谱图的比较 ,我们便可判定哪种构象存在于固态之中。通过对液态样品拉曼谱峰的温度相关性研究以及对低温下样品的稀有气体溶液红外谱峰的温度相关性研究 ,我们测定了一系列乙烯硅烷分子两种稳定构象间的焓差 ,并将这些实验结果与上至 6-31 1 +G( 2d ,2 p)的一系列基组的微扰理论和密度泛函理论 (DFT)从头计算结果进行比较。

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  • 拉曼光谱法确定某些硅聚合物的构象稳定性(英文)

    为了比较某些取代乙烯硅烷不同构象的相对稳定性 ,我们进行了一系列波数在 5 0 -35 0 0cm- 1间的拉曼光谱研究。本文所涉及的分子包括一 ,二卤 (F ,Cl,Br)代乙烯硅烷 ,甲基乙烯基二卤 (F ,Cl)代硅烷以及二甲基乙烯基—卤 (F ,Cl)代硅烷。对以上这些分子 ,我们进行了全电子相关Moller -Plesset微扰理论第二阶(MP2 )的从头 (abinitio)计算。我们仅引入两个比率因子 (scalingfactor)用以计算出液相中上述分子两种稳定构象的拉曼光谱。依据计算模拟所得的谱图 ,以及与实验所得的固相拉曼谱图的比较 ,我们便可判定哪种构象存在于固态之中。通过对液态样品拉曼谱峰的温度相关性研究以及对低温下样品的稀有气体溶液红外谱峰的温度相关性研究 ,我们测定了一系列乙烯硅烷分子两种稳定构象间的焓差 ,并将这些实验结果与上至 6-31 1 +G( 2d ,2 p)的一系列基组的微扰理论和密度泛函理论 (DFT)从头计算结果进行比较。

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  • 拉曼光谱法确定某些硅聚合物的构象稳定性(英文)

    为了比较某些取代乙烯硅烷不同构象的相对稳定性 ,我们进行了一系列波数在 5 0 -35 0 0cm- 1间的拉曼光谱研究。本文所涉及的分子包括一 ,二卤 (F ,Cl,Br)代乙烯硅烷 ,甲基乙烯基二卤 (F ,Cl)代硅烷以及二甲基乙烯基—卤 (F ,Cl)代硅烷。对以上这些分子 ,我们进行了全电子相关Moller -Plesset微扰理论第二阶(MP2 )的从头 (abinitio)计算。我们仅引入两个比率因子 (scalingfactor)用以计算出液相中上述分子两种稳定构象的拉曼光谱。依据计算模拟所得的谱图 ,以及与实验所得的固相拉曼谱图的比较 ,我们便可判定哪种构象存在于固态之中。通过对液态样品拉曼谱峰的温度相关性研究以及对低温下样品的稀有气体溶液红外谱峰的温度相关性研究 ,我们测定了一系列乙烯硅烷分子两种稳定构象间的焓差 ,并将这些实验结果与上至 6-31 1 +G( 2d ,2 p)的一系列基组的微扰理论和密度泛函理论 (DFT)从头计算结果进行比较。

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  • 布里渊散射深入研究Y3-xBixFe5O12晶体中的磁振子和声学声子(英文)

    刘玉龙,萧季驹

    我们选用x =0 ,0 1 4 ,0 36 ,0 5 4 ,和 0 92的Y3 xBixFe5O12 系列单晶 ,开展了比早期实验更为深入的布里渊散射研究。实验发现对于Bi YIG晶体 ,照射在样品上小于 5mW的激光功率为最佳激发功率。布里渊散射结果表明Y3 xBixFe5O12 晶体中的磁性能和机械性质与Bi含量密切有关。此实验观测到了两种体波性质的磁振子 ,一个是热激发的自旋波 ,另一个被确认为静磁模。实验还发现声学声子的散射强度和声速随Bi含量的增加而减少。

    2002年01期 13-19页 [查看摘要][在线阅读][下载 96k]
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  • 布里渊散射深入研究Y3-xBixFe5O12晶体中的磁振子和声学声子(英文)

    刘玉龙,萧季驹

    我们选用x =0 ,0 1 4 ,0 36 ,0 5 4 ,和 0 92的Y3 xBixFe5O12 系列单晶 ,开展了比早期实验更为深入的布里渊散射研究。实验发现对于Bi YIG晶体 ,照射在样品上小于 5mW的激光功率为最佳激发功率。布里渊散射结果表明Y3 xBixFe5O12 晶体中的磁性能和机械性质与Bi含量密切有关。此实验观测到了两种体波性质的磁振子 ,一个是热激发的自旋波 ,另一个被确认为静磁模。实验还发现声学声子的散射强度和声速随Bi含量的增加而减少。

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  • 布里渊散射深入研究Y3-xBixFe5O12晶体中的磁振子和声学声子(英文)

    刘玉龙,萧季驹

    我们选用x =0 ,0 1 4 ,0 36 ,0 5 4 ,和 0 92的Y3 xBixFe5O12 系列单晶 ,开展了比早期实验更为深入的布里渊散射研究。实验发现对于Bi YIG晶体 ,照射在样品上小于 5mW的激光功率为最佳激发功率。布里渊散射结果表明Y3 xBixFe5O12 晶体中的磁性能和机械性质与Bi含量密切有关。此实验观测到了两种体波性质的磁振子 ,一个是热激发的自旋波 ,另一个被确认为静磁模。实验还发现声学声子的散射强度和声速随Bi含量的增加而减少。

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  • Co/Ti金属磁性多层膜的激光布里渊散射研究(英文)

    刘玉龙,萧季驹

    在室温下利用直流磁控溅射法制备出了具有不同Co层厚度的 [Co(dConm) /Ti(dTinm) ]n 金属磁性多层膜 (其中dCoanddTi是Co和Ti的厚度 ,n薄膜调制周期数 )。在 30 0K下用X射线衍射法 (XRD)和布里渊散射方法研究了Co层厚度分别为dCo=1 ,2 ,2 5 ,3 5nm ,Ti层厚度为dTi=2 5nm的Co/Ti多层膜。XRD的结果所示在Co/Ti多层膜中Co层厚度超过 2 5nm ,其结构类似块材Co的多晶结构。对比之下 ,Co/Ti多层膜中Co层厚度低于 2 5nm ,其XRD衍射峰随Co层厚度减少变的峰形加宽 ,衍射峰的强度减少 ,峰位移动和消失。在Co/Ti多层膜中自旋波的布里渊散射结果表明 :在Co/Ti多层膜中 ,对于dCo>2 5nm磁性呈铁磁性耦合 ,在dCo≤ 2 5nm时 ,其呈反铁磁性耦合。除表面自旋波外 ,在呈反铁磁性耦合的材料中观测到了两个有体特征的自旋波 ,而在呈铁磁耦合的材料中只观测到一个有体特征的自旋波。

    2002年01期 20-26页 [查看摘要][在线阅读][下载 92k]
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  • Co/Ti金属磁性多层膜的激光布里渊散射研究(英文)

    刘玉龙,萧季驹

    在室温下利用直流磁控溅射法制备出了具有不同Co层厚度的 [Co(dConm) /Ti(dTinm) ]n 金属磁性多层膜 (其中dCoanddTi是Co和Ti的厚度 ,n薄膜调制周期数 )。在 30 0K下用X射线衍射法 (XRD)和布里渊散射方法研究了Co层厚度分别为dCo=1 ,2 ,2 5 ,3 5nm ,Ti层厚度为dTi=2 5nm的Co/Ti多层膜。XRD的结果所示在Co/Ti多层膜中Co层厚度超过 2 5nm ,其结构类似块材Co的多晶结构。对比之下 ,Co/Ti多层膜中Co层厚度低于 2 5nm ,其XRD衍射峰随Co层厚度减少变的峰形加宽 ,衍射峰的强度减少 ,峰位移动和消失。在Co/Ti多层膜中自旋波的布里渊散射结果表明 :在Co/Ti多层膜中 ,对于dCo>2 5nm磁性呈铁磁性耦合 ,在dCo≤ 2 5nm时 ,其呈反铁磁性耦合。除表面自旋波外 ,在呈反铁磁性耦合的材料中观测到了两个有体特征的自旋波 ,而在呈铁磁耦合的材料中只观测到一个有体特征的自旋波。

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  • Co/Ti金属磁性多层膜的激光布里渊散射研究(英文)

    刘玉龙,萧季驹

    在室温下利用直流磁控溅射法制备出了具有不同Co层厚度的 [Co(dConm) /Ti(dTinm) ]n 金属磁性多层膜 (其中dCoanddTi是Co和Ti的厚度 ,n薄膜调制周期数 )。在 30 0K下用X射线衍射法 (XRD)和布里渊散射方法研究了Co层厚度分别为dCo=1 ,2 ,2 5 ,3 5nm ,Ti层厚度为dTi=2 5nm的Co/Ti多层膜。XRD的结果所示在Co/Ti多层膜中Co层厚度超过 2 5nm ,其结构类似块材Co的多晶结构。对比之下 ,Co/Ti多层膜中Co层厚度低于 2 5nm ,其XRD衍射峰随Co层厚度减少变的峰形加宽 ,衍射峰的强度减少 ,峰位移动和消失。在Co/Ti多层膜中自旋波的布里渊散射结果表明 :在Co/Ti多层膜中 ,对于dCo>2 5nm磁性呈铁磁性耦合 ,在dCo≤ 2 5nm时 ,其呈反铁磁性耦合。除表面自旋波外 ,在呈反铁磁性耦合的材料中观测到了两个有体特征的自旋波 ,而在呈铁磁耦合的材料中只观测到一个有体特征的自旋波。

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  • KDP晶格振动模和生长机制的拉曼光谱研究(英文)

    卢贵武,夏海瑞,关继腾,张世奇,陈勇,周瑶琪

    用空间群理论分析和指认了KDP晶体的拉曼活性晶格振动模 ,测量了晶体以及生长溶液的拉曼光谱 ,重点分析了出现在固 /液界面附近的 91 6cm- 1拉曼峰 ,该峰被指认为扭曲的P(OH) 2 集团反对称伸缩振动。依据本文的理论分析和实验测量 ,我们认为H2 PO- 4阴离子集团的二聚物可能是KDP晶体的生长基元。

    2002年01期 27-33页 [查看摘要][在线阅读][下载 89k]
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  • KDP晶格振动模和生长机制的拉曼光谱研究(英文)

    卢贵武,夏海瑞,关继腾,张世奇,陈勇,周瑶琪

    用空间群理论分析和指认了KDP晶体的拉曼活性晶格振动模 ,测量了晶体以及生长溶液的拉曼光谱 ,重点分析了出现在固 /液界面附近的 91 6cm- 1拉曼峰 ,该峰被指认为扭曲的P(OH) 2 集团反对称伸缩振动。依据本文的理论分析和实验测量 ,我们认为H2 PO- 4阴离子集团的二聚物可能是KDP晶体的生长基元。

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  • KDP晶格振动模和生长机制的拉曼光谱研究(英文)

    卢贵武,夏海瑞,关继腾,张世奇,陈勇,周瑶琪

    用空间群理论分析和指认了KDP晶体的拉曼活性晶格振动模 ,测量了晶体以及生长溶液的拉曼光谱 ,重点分析了出现在固 /液界面附近的 91 6cm- 1拉曼峰 ,该峰被指认为扭曲的P(OH) 2 集团反对称伸缩振动。依据本文的理论分析和实验测量 ,我们认为H2 PO- 4阴离子集团的二聚物可能是KDP晶体的生长基元。

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  • 氧化铁掺杂TiO2和TiO2/SiO2的Raman光谱(英文)

    王桂华,施建成,余锡宾,王欣,章宗穰

    采用Sol Gel法制备氧化铁掺杂TiO2 和TiO2 /SiO2 纳米粒子及在玻璃表面的涂膜 ,并用Raman光谱研究氧化铁含量对TiO2 和TiO2 /SiO2 结构的影响。该产物对水和大气中的有机污染物有催化降解作用。

    2002年01期 34-39页 [查看摘要][在线阅读][下载 94k]
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  • 氧化铁掺杂TiO2和TiO2/SiO2的Raman光谱(英文)

    王桂华,施建成,余锡宾,王欣,章宗穰

    采用Sol Gel法制备氧化铁掺杂TiO2 和TiO2 /SiO2 纳米粒子及在玻璃表面的涂膜 ,并用Raman光谱研究氧化铁含量对TiO2 和TiO2 /SiO2 结构的影响。该产物对水和大气中的有机污染物有催化降解作用。

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  • 氧化铁掺杂TiO2和TiO2/SiO2的Raman光谱(英文)

    王桂华,施建成,余锡宾,王欣,章宗穰

    采用Sol Gel法制备氧化铁掺杂TiO2 和TiO2 /SiO2 纳米粒子及在玻璃表面的涂膜 ,并用Raman光谱研究氧化铁含量对TiO2 和TiO2 /SiO2 结构的影响。该产物对水和大气中的有机污染物有催化降解作用。

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  • 多孔硅的拉曼光谱研究

    晁明举,张红瑞,梁二军

    本文研究了多孔硅的拉曼光谱随激发激光功率的变化 ,发现当激发光的功率较低时 ,多孔硅的拉曼光谱在 5 2 0cm- 1附近为一单峰。随着激光功率的增加 ,该单峰向低波数移动且半高宽增大 ,当继续增大激光功率时 ,该单峰分裂为双峰 ,位于低波数一侧的拉曼峰随着激光功率的增大而进一步向低波数移动。多孔硅的拉曼光谱随着激光功率的变化是一个可逆的过程。这一结果表明 ,低波数拉曼峰的位置既不能作为多孔硅颗粒尺寸的量度 ,也不能只把低波数的拉曼峰作为多孔硅的特征。我们认为激光诱导多孔硅中LO和TO声子模的简并解除是观察到双峰的主要原因。

    2002年01期 40-43页 [查看摘要][在线阅读][下载 36k]
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  • 多孔硅的拉曼光谱研究

    晁明举,张红瑞,梁二军

    本文研究了多孔硅的拉曼光谱随激发激光功率的变化 ,发现当激发光的功率较低时 ,多孔硅的拉曼光谱在 5 2 0cm- 1附近为一单峰。随着激光功率的增加 ,该单峰向低波数移动且半高宽增大 ,当继续增大激光功率时 ,该单峰分裂为双峰 ,位于低波数一侧的拉曼峰随着激光功率的增大而进一步向低波数移动。多孔硅的拉曼光谱随着激光功率的变化是一个可逆的过程。这一结果表明 ,低波数拉曼峰的位置既不能作为多孔硅颗粒尺寸的量度 ,也不能只把低波数的拉曼峰作为多孔硅的特征。我们认为激光诱导多孔硅中LO和TO声子模的简并解除是观察到双峰的主要原因。

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  • 多孔硅的拉曼光谱研究

    晁明举,张红瑞,梁二军

    本文研究了多孔硅的拉曼光谱随激发激光功率的变化 ,发现当激发光的功率较低时 ,多孔硅的拉曼光谱在 5 2 0cm- 1附近为一单峰。随着激光功率的增加 ,该单峰向低波数移动且半高宽增大 ,当继续增大激光功率时 ,该单峰分裂为双峰 ,位于低波数一侧的拉曼峰随着激光功率的增大而进一步向低波数移动。多孔硅的拉曼光谱随着激光功率的变化是一个可逆的过程。这一结果表明 ,低波数拉曼峰的位置既不能作为多孔硅颗粒尺寸的量度 ,也不能只把低波数的拉曼峰作为多孔硅的特征。我们认为激光诱导多孔硅中LO和TO声子模的简并解除是观察到双峰的主要原因。

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  • N-巯基烷基吡咯在金属表面的SERS研究

    陆云,陈瑾,隋晓刚,薛奇

    N -巯基烷基吡咯能在金属表面发生化学吸附并呈现有序的分子排列。SERS研究结果表明 ,金电极表面吸附的N -( 2 -巯基乙基 )吡咯单分子层在吡咯分子的电化学聚合中可诱导聚吡咯的高度有序排列 ,使聚吡咯的有效共轭链长增加 ,有助于其电导率的提高。

    2002年01期 44-47页 [查看摘要][在线阅读][下载 35k]
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  • N-巯基烷基吡咯在金属表面的SERS研究

    陆云,陈瑾,隋晓刚,薛奇

    N -巯基烷基吡咯能在金属表面发生化学吸附并呈现有序的分子排列。SERS研究结果表明 ,金电极表面吸附的N -( 2 -巯基乙基 )吡咯单分子层在吡咯分子的电化学聚合中可诱导聚吡咯的高度有序排列 ,使聚吡咯的有效共轭链长增加 ,有助于其电导率的提高。

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  • N-巯基烷基吡咯在金属表面的SERS研究

    陆云,陈瑾,隋晓刚,薛奇

    N -巯基烷基吡咯能在金属表面发生化学吸附并呈现有序的分子排列。SERS研究结果表明 ,金电极表面吸附的N -( 2 -巯基乙基 )吡咯单分子层在吡咯分子的电化学聚合中可诱导聚吡咯的高度有序排列 ,使聚吡咯的有效共轭链长增加 ,有助于其电导率的提高。

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  • 氮化铝结构的高温Raman光谱分析

    周灿栋,蒋国昌,尤静林

    本文测量了氮化铝在不同温度下的Raman光谱 ,并确定了氮化铝的光学声子模E2 1、A1(TO)、E2 2 、E1(TO)、A1(LO)和E1(LO)Raman散射峰的频率 ,它们分别为 2 5 2cm- 1、6 1 4cm- 1、6 5 8cm- 1、6 72cm- 1、894cm- 1和 91 2cm- 1,其中光学声子模A1(TO)、E2 2 的Raman散射峰比较明显。随着温度的升高 ,A1(TO)、E2 2 散射峰的频率向低波数方向变化 ,表明氮化铝粉末压制体中存在的压应力逐渐减小 ;这两个散射峰的半高宽逐渐增大 ,说明随着温度的升高 ,存在氮原子和铝原子的扩散使得氮化铝粉末压制体中晶体结构逐渐发生变化。由于氮化铝粉末本身在空气中易与水蒸气发生反应 ,生成的Al(OH) 3 或AlOOH在加热过程会发生分解 ,干扰样品高温Raman光谱测量。

    2002年01期 48-53页 [查看摘要][在线阅读][下载 60k]
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  • 氮化铝结构的高温Raman光谱分析

    周灿栋,蒋国昌,尤静林

    本文测量了氮化铝在不同温度下的Raman光谱 ,并确定了氮化铝的光学声子模E2 1、A1(TO)、E2 2 、E1(TO)、A1(LO)和E1(LO)Raman散射峰的频率 ,它们分别为 2 5 2cm- 1、6 1 4cm- 1、6 5 8cm- 1、6 72cm- 1、894cm- 1和 91 2cm- 1,其中光学声子模A1(TO)、E2 2 的Raman散射峰比较明显。随着温度的升高 ,A1(TO)、E2 2 散射峰的频率向低波数方向变化 ,表明氮化铝粉末压制体中存在的压应力逐渐减小 ;这两个散射峰的半高宽逐渐增大 ,说明随着温度的升高 ,存在氮原子和铝原子的扩散使得氮化铝粉末压制体中晶体结构逐渐发生变化。由于氮化铝粉末本身在空气中易与水蒸气发生反应 ,生成的Al(OH) 3 或AlOOH在加热过程会发生分解 ,干扰样品高温Raman光谱测量。

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    周灿栋,蒋国昌,尤静林

    本文测量了氮化铝在不同温度下的Raman光谱 ,并确定了氮化铝的光学声子模E2 1、A1(TO)、E2 2 、E1(TO)、A1(LO)和E1(LO)Raman散射峰的频率 ,它们分别为 2 5 2cm- 1、6 1 4cm- 1、6 5 8cm- 1、6 72cm- 1、894cm- 1和 91 2cm- 1,其中光学声子模A1(TO)、E2 2 的Raman散射峰比较明显。随着温度的升高 ,A1(TO)、E2 2 散射峰的频率向低波数方向变化 ,表明氮化铝粉末压制体中存在的压应力逐渐减小 ;这两个散射峰的半高宽逐渐增大 ,说明随着温度的升高 ,存在氮原子和铝原子的扩散使得氮化铝粉末压制体中晶体结构逐渐发生变化。由于氮化铝粉末本身在空气中易与水蒸气发生反应 ,生成的Al(OH) 3 或AlOOH在加热过程会发生分解 ,干扰样品高温Raman光谱测量。

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  • 拉曼光谱研究电化学沉积聚吡咯掺杂程度对膜厚度的依赖性

    陈凤恩,石高全,徐景坤,傅明笑,洪啸吟,郁鉴源

    本文报道电化学沉积在光滑铂电极表面上聚吡咯 (PPy)膜的拉曼光谱。研究结果表明 :聚吡咯膜的掺杂程度在其生长过程中不断增加。因此 ,PPy膜的拉曼光谱特性对膜厚具有很强的依赖性。电化学分析结果也证明了这一发现。具有已知厚度的PPy膜的掺杂程度依赖于支持电解质的性质。

    2002年01期 54-57页 [查看摘要][在线阅读][下载 37k]
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  • 拉曼光谱研究电化学沉积聚吡咯掺杂程度对膜厚度的依赖性

    陈凤恩,石高全,徐景坤,傅明笑,洪啸吟,郁鉴源

    本文报道电化学沉积在光滑铂电极表面上聚吡咯 (PPy)膜的拉曼光谱。研究结果表明 :聚吡咯膜的掺杂程度在其生长过程中不断增加。因此 ,PPy膜的拉曼光谱特性对膜厚具有很强的依赖性。电化学分析结果也证明了这一发现。具有已知厚度的PPy膜的掺杂程度依赖于支持电解质的性质。

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  • 拉曼光谱研究电化学沉积聚吡咯掺杂程度对膜厚度的依赖性

    陈凤恩,石高全,徐景坤,傅明笑,洪啸吟,郁鉴源

    本文报道电化学沉积在光滑铂电极表面上聚吡咯 (PPy)膜的拉曼光谱。研究结果表明 :聚吡咯膜的掺杂程度在其生长过程中不断增加。因此 ,PPy膜的拉曼光谱特性对膜厚具有很强的依赖性。电化学分析结果也证明了这一发现。具有已知厚度的PPy膜的掺杂程度依赖于支持电解质的性质。

    2002年01期 54-57页 [查看摘要][在线阅读][下载 37k]
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  • (Ta2O5)1-x(TiO2)x陶瓷结构相变研究

    蒋毅坚,P.S.Dobal,R.S.Katiyar,王越

    采用固相反应技术制备了x分别为 0 0 5、0 0 8和 0 1 1的 (Ta2 O5) 1-x(TiO2 ) x 陶瓷 ;在室温至 6 0 0℃范围内 ,测量了这些陶瓷样品的拉曼光谱随温度的变化。随着温度的升高 ,拉曼光谱中位于 35~38cm- 1的最低频移的声子模发生软化 ,并随之发生结构相变。拉曼光谱和实验结果都表明 :组分x分别为0 0 5、0 0 8和 0 1 1的 (Ta2 O5) 1-x(TiO2 ) x 陶瓷分别在 36 0、4 5 0和 5 4 0℃发生了由三斜至单斜相的结构相变。上述结论得到了 (Ta2 O5) 0 92 (TiO2 ) 0 0 8单晶热膨胀系数测量数据的支持。

    2002年01期 58-61页 [查看摘要][在线阅读][下载 43k]
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  • (Ta2O5)1-x(TiO2)x陶瓷结构相变研究

    蒋毅坚,P.S.Dobal,R.S.Katiyar,王越

    采用固相反应技术制备了x分别为 0 0 5、0 0 8和 0 1 1的 (Ta2 O5) 1-x(TiO2 ) x 陶瓷 ;在室温至 6 0 0℃范围内 ,测量了这些陶瓷样品的拉曼光谱随温度的变化。随着温度的升高 ,拉曼光谱中位于 35~38cm- 1的最低频移的声子模发生软化 ,并随之发生结构相变。拉曼光谱和实验结果都表明 :组分x分别为0 0 5、0 0 8和 0 1 1的 (Ta2 O5) 1-x(TiO2 ) x 陶瓷分别在 36 0、4 5 0和 5 4 0℃发生了由三斜至单斜相的结构相变。上述结论得到了 (Ta2 O5) 0 92 (TiO2 ) 0 0 8单晶热膨胀系数测量数据的支持。

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  • (Ta2O5)1-x(TiO2)x陶瓷结构相变研究

    蒋毅坚,P.S.Dobal,R.S.Katiyar,王越

    采用固相反应技术制备了x分别为 0 0 5、0 0 8和 0 1 1的 (Ta2 O5) 1-x(TiO2 ) x 陶瓷 ;在室温至 6 0 0℃范围内 ,测量了这些陶瓷样品的拉曼光谱随温度的变化。随着温度的升高 ,拉曼光谱中位于 35~38cm- 1的最低频移的声子模发生软化 ,并随之发生结构相变。拉曼光谱和实验结果都表明 :组分x分别为0 0 5、0 0 8和 0 1 1的 (Ta2 O5) 1-x(TiO2 ) x 陶瓷分别在 36 0、4 5 0和 5 4 0℃发生了由三斜至单斜相的结构相变。上述结论得到了 (Ta2 O5) 0 92 (TiO2 ) 0 0 8单晶热膨胀系数测量数据的支持。

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  • 第十一届全国光散射学术会议纪要

    2002年01期 62页 [查看摘要][在线阅读][下载 7k]
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  • 第十一届全国光散射学术会议纪要

    2002年01期 62页 [查看摘要][在线阅读][下载 7k]
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  • 第十一届全国光散射学术会议纪要

    2002年01期 62页 [查看摘要][在线阅读][下载 7k]
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  • 《光散射学报》征稿简则

    2002年01期 63页 [查看摘要][在线阅读][下载 6k]
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  • 《光散射学报》征稿简则

    2002年01期 63页 [查看摘要][在线阅读][下载 6k]
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  • 《光散射学报》征稿简则

    2002年01期 63页 [查看摘要][在线阅读][下载 6k]
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期刊名称: 光散射学报
创刊日期: 1989年
主管部门:四川省科学技术协会
主办单位:中国物理学会光散射专业委员会、四川省物理学会
刊  期:季刊
电  话:(028)85418067
Email信箱:cjls@scu.edu.cn
国际标准刊号:ISSN 1004-5929
国内统一刊号:CN 51-1395/O4

官方网站:http://journal-cjls.cn/